蘇聯在上世紀50年代末開端準備建造自己的微電子工業 ，1987年列別捷夫物理研討所發布全球搶先的EUV光刻研討成果，現在搶手的SiC功率器材也有不少在運用這種光刻設備。Peleng好像也以充溢蘇式“技能復古”的魔幻方法與ASML協作，挨近/觸摸式光刻機的功能也早已無法滿意大規劃集成電路出產制作的需求。以此完成去除剩余結構的意圖 。Planar的光刻機并未進入這一年代