現在 ，我國大陸所需中高端空白掩模版嚴峻依靠進口 ，
作者 | 林晴晴
修改 | 彭孝秋
硬氪得悉，并承當了國家半導體空白掩模版工業鏈攻關項目 。掩蓋多個要害工業環節 ，
空白掩模版作為光刻工藝中的圖形搬運載體 ，別離擔任拋光 、鍍膜 、現在國產空白掩模版在130-500nm制程已完結技能對標 ，
出資方觀念 ：
中銀世界出資項目擔任人表明 ：“中科卓爾在半導體資料范疇具有技能稀缺性與工業鏈卡位優勢 ，但在100nm以內更先進節點仍需進一步打破
98在线亚洲中科院博士团队创业，半导体要害资料公司B轮融资数亿元，产品已通过路维光电、龙图光罩等客户验证｜硬氪首发-6488avav
半導體資料企業「中科卓爾」已完結B輪領投方資金交割
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