套刻差錯的答應規模與要害尺度（CD）嚴密相關
。一起考慮到晶圓廠的良率規范和工程師的運用習氣，收集原始數據并經過對應算法解分出成果 
。進一步提高了晶圓產能對套刻設備的需求密度。

巨子操縱的商場

當時Overlay商場由美國KLA公司和荷蘭ASML公司雙寡頭主導 ，尤其是光刻機，

從設備開發層面，首款設備面向28~14nm Logic/Memory晶圓廠