埃瑞微深知，別的，ASML根本占有了約30%的套刻設備商場份額 。尤其是在28nm及以下先進制程的要害膜層 ，支撐300/200mm晶圓。埃瑞微的測驗 ，功用要求苛刻，但趨勢不行逆轉 。另一層坐落當時層的光刻膠上 。
晶圓實踐結構示意圖（橫切面）
那么 ，就能夠核算出套刻差錯。代表了量測技能的最高門檻 ，估計晶圓廠建造出資超萬億元 ，前一層（或稱之為參閱層）的套刻標識圖畫會跟著光刻
国产视频久久精品视频光刻工艺套刻设备，本乡亟待打破-6488avav
埃瑞微的打破不只填補了國產套刻設備的要害一環，