蘇聯在上世紀50年代末開端準備建造自己的微電子工業 ，以此完成去除剩余結構的意圖 。蘇聯在半導體技能上的開展大大落后于同期的西方甚至同為社會主義陣營的東德 。蘇聯科學院微結構物理研討所開宣布EUV光刻所需的多層鏡制作技能 ，印度等新式商場樹立協作 。Konstruktorskoe Buro - Tekhnicheskoe Oborudovanie i Materialy） ，而跟著年代的前進
在线播放大群第二季俄罗斯的光刻机往事-6488avav
最高只能支撐亞微米級的精度和分辨率
。挨近/觸摸式光刻機的功能也早已無法滿意大規劃集成電路出產制作的需求 。