av在线 亚洲 高清中微公司发布六款半导体设备新品，对商场拓宽和成绩成长性估计发生积极影响-6488avav發布時間:2025-11-11 17:39:03分類: 最新新聞 包含兩款刻蝕設備和四款薄膜堆積設備 。近兩年新開發的LPCVD薄膜設備和ALD薄膜設備 ，可進一步滿意客戶需求 ，統籌刻蝕精度與出產功率。中微公司新一代極深邃寬比等離子體刻蝕“利器”—— CCP電容性高能等離子體刻蝕機Primo UD-RIE ，9月4日收盤，在刻蝕設備方面 ，進入半導體集成電路制作