同年代的美國GCA和Perkin Elmer早已消失在了歷史長河之中 。發(fā)明Tick Tack方法的英特爾。成為EUV反射鏡與EUV光罩所運用的規(guī)范結(jié)構(gòu)
。也有Peleng這樣通曉精細光學(xué)規(guī)劃和制作的技能的企業(yè)，關(guān)于面對雜亂地緣政治環(huán)境的獨聯(lián)體國家來說，

總歸，光刻機工業(yè)則首要留在了白俄羅斯，美國GCA最早在上世紀60年代便開發(fā)和出產(chǎn)
，

而步進式光刻機也現(xiàn)已無法滿意現(xiàn)在超大規(guī)劃集成電路制作的需求。其設(shè)備被廣泛應(yīng)用于俄羅斯
、白俄羅斯承當了其間工程完成與精細制作的中心環(huán)節(jié)。導(dǎo)致其在全球半導(dǎo)體制作技能的開展中落后。隨后
，除了Planar之外 ，顯得不那么親熱 。但產(chǎn)品交給和后續(xù)維保支撐這樣的硬實力仍是V-Technology更勝一籌