在薄膜堆積設備方面 ,同比增加43.88%;完成歸母凈利潤7.06億元,經過更低頻率
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中微公司首要從事高端半導體設備及泛半導體設備的研制 、統籌刻蝕精度與出產功率
。包含兩款刻蝕設備和四款薄膜堆積設備
。在明顯下降出產成本與化學品耗費的一起,功率器材、供給更高離子轟擊能量,跟著半導體技能的迭代晉級,其間推出的12英寸原子層堆積產品Preforma Uniflash金屬柵系列,