在薄膜堆積設備方面 ，等離子體刻蝕設備已使用在世界一線客戶從65至5納米及其他先進的集成電路加工制作出產線及先進封裝出產線 。拓寬公司產品布局 ，
中微公司表明 ， 包括 Preforma Uniflash? TiN 、 Preforma Uniflash? TiAl 及 Preforma Uniflash?TaN 三大產品 ， 拿手金屬Al線
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MEMS制作以及其他微觀工藝的高端設備范疇
。 原子層堆積及外延等技能的使用需求繼續攀升。