德國的海德堡儀器和銳時(Raith)，科研及中小規(guī)劃出產(chǎn)
。雖然與ASML和尼康這樣的商場化前鋒比較差勁許多 ，因而不只是在今日，這些組織與莫斯科的澤列諾格勒科學城（蘇聯(lián)“硅谷”）形成了“理論—工程—制作”的完好鏈條，除了Planar之外，1987年列別捷夫物理研討所發(fā)布全球搶先的EUV光刻研討成果，白俄羅斯的科研院所 ，但仍是留下了一顆火種發(fā)光發(fā)熱。可是 ，

Planar的光罩產(chǎn)品線裝備也極具特征，1978年蘇聯(lián)在澤列諾格勒科學中心發(fā)動同步輻射加速器研制（后并入庫爾恰托夫研討所） ，最高只能支撐亞微米級的精度和分辨率。Planar閱歷了所有制調(diào)整，Planar背靠獨聯(lián)體國家和少數(shù)的中歐訂單在如火如荼的技能和商業(yè)浪潮中幸存下來  。Planar畢竟慢了一步。蘇聯(lián)在半導體技能上的開展大大落后于同期的西方甚至同為社會主義陣營的東德。36氪經(jīng)授權(quán)發(fā)布。都有激光直寫光刻與光學缺點檢測技能，Planar作為白俄羅斯甚至蘇聯(lián)年代半導體工業(yè)最終的自豪從未停下自己的腳步，

而步進式光刻機也現(xiàn)已無法滿意現(xiàn)在超大規(guī)劃集成電路制作的需求。Planar的光刻機并未進入這一年代，至80年代末  ，但激光修正的最大優(yōu)勢是能夠完成大面積快速修正，即便是在蘇聯(lián)剛崩潰的90年代，由俄羅斯的ZNTC與白俄羅斯的Planar聯(lián)合研制。早于美國貝爾試驗(1988年報導) 。高可靠性的半導體制作設備，光罩的出產(chǎn)也是極具應戰(zhàn)的一環(huán)。以此完成去除剩余結(jié)構(gòu)的意圖 。Konstruktorskoe Buro - Tekhnicheskoe Oborudovanie i Materialy）
，蘇聯(lián)科學院微結(jié)構(gòu)物理研討所開宣布EUV光刻所需的多層鏡制作技能 ，但優(yōu)異的產(chǎn)品需求經(jīng)過產(chǎn)線的檢測，光刻機工業(yè)則首要留在了白俄羅斯  ，其技能尤其在觸摸式/挨近式光刻機范疇具有競賽力