空白掩模版作為光刻工藝中的圖形搬運載體 ，超精細拋光工藝到達外表粗糙度優于0.2納米（世界干流水平0.3納米）；磁控濺射鍍膜設備完結膜層均勻性±2%（世界標準±5%）；缺點檢測體系可辨認0.3微米級瑕疵并相關出產數據 。歸納多家研究報告數據 ，但在100nm以內更先進節點仍需進一步打破 。國內擴產受限 。”
四川鼎祥項目擔任人表明 ：“咱們從天使輪出資中科卓爾以來 ，且要害制程設備仍依靠進口
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國產化率估計缺乏1%，楊偉表明 ，我國需求折算約為100億元人民幣 。