商業化方面 ，國產化產線建造及打破量產瓶頸 。但在100nm以內更先進節點仍需進一步打破 。”
電子束曝光與缺點檢測等空白掩模版出產中的中心設備長時間受美日出口操控 ，近來，我國大陸所需中高端空白掩模版嚴峻依靠進口 ，一起中文在线 亚洲图片小说中科院博士团队创业，半导体要害资料公司B轮融资数亿元，产品已通过路维光电、龙图光罩等客户验证｜硬氪首发-6488avav
韓國KTG等少量幾家企業獨占
，龍圖光罩和國內多家自研光刻機等企業驗證 。其主要產品掩蓋130-250nm制程半導體/顯現用空白掩模版（28-90nm產品正在活躍儲藏研發）及相關中心設備
。