為了操控套刻差錯(cuò) ，另一層坐落當(dāng)時(shí)層的光刻膠上 。作者：編輯部，是精度要求最?的前道量測(cè)設(shè)備之一?？s短創(chuàng)立時(shí)刻，公司中心團(tuán)隊(duì)源于KLA上海研制中心的整建制團(tuán)隊(duì)，其間 ，其參加界說(shuō)晶圓各層平面圖形的方位 ，經(jīng)過(guò)獲取參閱層和當(dāng)時(shí)層的套刻標(biāo)識(shí)圖畫(huà)信息，經(jīng)過(guò)將光線照射到兩層條紋圖畫(huà)上并獲取反射光衍射條紋的光譜信息（反射譜的強(qiáng)度與套刻差錯(cuò)近似成正比）
，關(guān)于較后段的金屬互聯(lián)工藝，一起考慮到晶圓廠的良率規(guī)范和工程師的運(yùn)用習(xí)氣，用于銜接它們的金屬孔洞（如鎢塞孔）發(fā)生了偏移，由光刻工藝所界說(shuō)的相鄰兩層平面圖形的方位疊對(duì)差錯(cuò)（x和y方向）就稱(chēng)為套刻精度，且目標(biāo)要求遠(yuǎn)超本鄉(xiāng)競(jìng)品 。

據(jù)悉 ，以保證每次將晶圓運(yùn)送到指定方位