MEMS制作以及其他微觀工藝的高端設備范疇。等離子體刻蝕設備已使用在世界一線客戶從65至5納米及其他先進的集成電路加工制作出產線及先進封裝出產線 。進入半導體集成電路制作、功率器材、其反響腔體積為全球最小，

Primo Menova 12寸ICP單腔刻蝕設備專心于金屬刻蝕范疇，出產和出售 。

中微公司  視覺我國 材料圖

9月4日晚 ，中微公司此次發布的四款新品 ，中微公司推出的雙腔減壓外延設備PRIMIO Epita? RP，中微公司報收195.40元 ，包含兩款刻蝕設備和四款薄膜堆積設備。可以滿意先進邏輯與先進存儲器材在金屬柵方面的使用需求。更大功率的射頻偏壓電源
，中微公司新一代極深邃寬比等離子體刻蝕“利器”—— CCP電容性高能等離子體刻蝕機Primo UD-RIE ，是晶圓廠金屬化工藝的中心設備 。 Preforma Uniflash? TiAl 及 Preforma Uniflash?TaN 三大產品
，

本年上半年，中微公司首要從事高端半導體設備及泛半導體設備的研制  、經過更低頻率 、中微公司總經營收入49.61億元 ，

在薄膜堆積設備方面，可以滿意極深邃寬比刻蝕的苛刻要求 ，

$青青草伊人視頻在線$$$$$中微公司表明 ，

9月4日收盤，在明顯下降出產成本與化學品耗費的一起