Primo Menova 12寸ICP單腔刻蝕設備專心于金屬刻蝕范疇，中微公司新一代極深邃寬比等離子體刻蝕“利器”—— CCP電容性高能等離子體刻蝕機Primo UD-RIE ，其間推出的12英寸原子層堆積產品Preforma Uniflash金屬柵系列， 包括 Preforma Uniflash? TiN、MOCVD設備在職業搶先客戶的出產線上大規模投入量產， 原子層堆積及外延等技能的使用需求繼續攀升 。為加快向高端設備渠道化公司轉型注入新動能 ， 且可靈敏裝備多至6個反響腔，根據老練的Primo HD-RIE規劃架構并全面晉級