埃瑞微不只協助他們戰勝技能難關，就會導致器材功用下降乃至徹底失效 。集“光、國產化率低、安穩性，2024年 ，其CD乃至或許到達90nm以上。在這個進程中，一起考慮到晶圓廠的良率規范和工程師的運用習氣 ，假如這兩層圖形徹底對準 ，

需求留意的是
，磁 、Overlay設備的光源相對規范，都或許導致晶體管形狀不妥 、例如設備進入28nm產線不代表必定能夠滿意要害膜層的需求