商業(yè)化方面 ，
硬氪了解到，現(xiàn)在國(guó)產(chǎn)空白掩模版在130-500nm制程已完結(jié)技能對(duì)標(biāo)，一起，具有從工藝到中心設(shè)備的研發(fā)出產(chǎn)才能 ，算計(jì)B輪融資規(guī)劃數(shù)億元 。直接影響光刻精度及產(chǎn)品良率 。2024年全球空白掩模版市場(chǎng)規(guī)劃約為36億美元 ，是芯與屏用光刻機(jī)的中心資料 ，一起，但在100nm以內(nèi)更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)仍需進(jìn)一步打破